12月21日消息，据Cnews报导，俄罗斯已公布自主研发的光刻机路线图，目标是打造比ASML系统更经济的EUV光刻机。这些光刻机将采用波长为11.2nm的镭射光源，而非ASML使用的标准13.5nm波长。因此，新技术无法与现有EUV基础设施相容，需要俄罗斯自行开发配套的曝光生态系统，可能需要数年甚...