快科技9月7日消息,Intel公司今年将量产18A工艺,这是他们四年五代工艺中的关键一环,而且该工艺会持续改进,一直用到2030年。18A下一代工艺就是14A了,这一代还会用上High NA EUV光刻机,也就是ASML公司的Twinscan NXE:5000系列,NA提升到0.55,分辨率更高,是2nm节点以下的关键设备。相比当前EUV光刻机每台2亿美元的价格,Twinscan NXE:5000的价格也上天了,每台售价4亿美元以上,差不多30亿rmb一台,非常烧钱。正因为此...
快科技10月10日消息,ASML新任CEO近日公开表示,两台High NA EUV光刻机(单台设备的售价约为3.5亿美元)已经在英特尔安装完成了。作为目前全球最先进,也是最贵的光刻机,ASML宝石,High NA EUV光刻机不太可能像最初的EUV光刻机那样出现延迟。“我们只能期待它相对快速地推出和采用,因为High NA EUV光刻机更像是EUV光刻机的“升级款”,而不是一个全新的产品。”有趣的是,台积电以成本为由,迟迟不肯接受High NA。在外界看来,这有点像台积电的谈...
随着半导体工艺进入7nm以内,EUV光刻机是必不可少的关键设备,全球只有ASML公司能生产,现在NA 0.33孔径的EUV光刻机售价高达1.5亿美元,约合10亿一台,不过下一代会更贵。光刻机制造芯片的关键指标就是光刻分辨率,其中镜头的NA数值孔径越大越好,现在NA 0.33孔径的EUV光刻机能够量产3nm、2nm工艺,再往后就需要NA 0.55孔径的下一代光刻机,也就是High NA EUV,制造2nm以下的工艺必需。High NA EUV预计在明年开始出样机给客户,这一次I...