DUV光刻机也能造3nm芯片!中科院GAA晶体管重大突破:绕开EUV光刻机
快科技9月18日消息,据报道,中国科学院近日公布了一种新型全环绕栅极(GAA)晶体管架构,在DUV光刻机上实现了开关比超过50万倍的性能表现,理论上可解锁3nm等效性能。GAA晶体管与传统的FinFET不同,它的栅极从四面八方包裹住电流通道,对电流的控制更精准。打个比方,FinFET像用两根手指捏住水管,而GAA是用整只手攥住水管,几乎杜绝了漏电。中科院此次开发的GAA晶体管开关比超过50万,意味着开启时流过的电流是关闭时的50万倍,展现出极佳的电气控制能力。更关键的是,这些...